| 专利名称 | 振镜式激光直写光刻机 | 申请号 | CN201110412777.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102495534A | 公开（授权）日 | 2012.06.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 郝春宁;徐文东;范永涛;刘前 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B26/10(2006.01)I | 专利有效期 | 振镜式激光直写光刻机 至振镜式激光直写光刻机 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种振镜式激光直写光刻机，采用模块化设计，由激光扫描模块、自动聚焦模块、样品台模块、位移台模块、样片监测模块和控制模块组成。本发明采用双振镜激光扫描、大范围二维位移台，可实现高速、大范围、高精度的激光直写光刻，适于快速经济地制作微纳结构。 |
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