| 专利名称 | 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置 | 申请号 | CN201120352733.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202259195U | 公开（授权）日 | 2012.05.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 | 发明（设计）人 | 陈波;黄成强;李超波;饶志鹏 | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置 至一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 | 说明书摘要 | 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置，包括主支架和副支架，所述主支架上安装有刻蚀腔和分子泵，所述刻蚀腔与分子泵连接，所述副支架上安装有预真空腔，所述预真空腔与刻蚀腔连接，所述预真空腔内安装有将片盘输送到刻蚀腔的机械手，所述预真空腔与刻蚀腔均与抽真空用的机械泵连接；所述刻蚀腔的下方安装有可带动片盘在刻蚀腔内运动的下电极，所述下电极与RIE射频电源连接；所述刻蚀腔和预真空腔上均连接有进气管道，所述进气管道与控制其通气的通气系统连接，所述刻蚀腔的进气口上连接有ICP射频电源；所述机械手与下电极分别与带动其运动的伺服电机连接，所述伺服电机均与控制其运动的伺服电机控制器连接。 |
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