| 专利名称 | 用于细胞图案化生长的基底、制备方法及其应用 | 申请号 | CN201010544606.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102465119A | 公开（授权）日 | 2012.05.23 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 蒋兴宇;孙康;谢赟燕;马万顺 | 主分类号 | C12N11/14(2006.01)I | IPC主分类号 | C12N11/14(2006.01)I;C12N11/08(2006.01)I | 专利有效期 | 用于细胞图案化生长的基底、制备方法及其应用 至用于细胞图案化生长的基底、制备方法及其应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种用于细胞图案化生长的基底，所述基底包含细胞不能粘附的惰性表面和在所述惰性表面上的图案，该图案由允许细胞粘附的物质形成，且所述惰性表面没有全部被所述图案覆盖。本发明还提供了所述基底的制备方法，该方法采用一步印刷步骤即可制备所述基底，极大地简化了现有制备用于细胞图案化生长基底的方法，并且拓宽了所使用基底的范围。本发明还提供了所述基底在用于细胞图案化生长中的应用。 |
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