| 专利名称 | 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 | 申请号 | CN201010106871.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101818047A | 公开（授权）日 | 2010.09.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 张泽芳;刘卫丽;宋志棠 | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I | IPC主分类号 | C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;H01L21/762(2006.01)I;B24B7/24(2006.01)I | 专利有效期 | 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 至氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 | 说明书摘要 | 本发明属于微电子加工中的化学机械抛光浆液领域，具体涉及氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用。本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈，且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核，外壳为氧化铈包覆层。由本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒配制成的抛光液对超大规模集成电路玻璃、二氧化硅介质层和STI进行抛光，可以提高抛光去除率和抛光选择比，减少抛光缺陷。 |
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