专利名称 | 三维达曼阵列产生器 | 申请号 | CN201110388316.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN102385169A | 公开(授权)日 | 2012.03.21 | 申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 周常河;余俊杰;贾伟;王少卿;麻健勇;曹红超 | 主分类号 | G02B27/44(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/44(2006.01)I | 专利有效期 | 三维达曼阵列产生器 至三维达曼阵列产生器 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种三维达曼阵列产生器,特点是其构成包括沿入射的均匀强度激光平面波前进方向依次的二维达曼光栅、由第一透镜和第二透镜组成的共焦透镜组、入射光瞳、达曼波带片和消像差聚焦物镜,所述的二维达曼光栅是M×N的达曼光栅,所述的达曼波带片是1×Q达曼波带片,在所述的聚焦物镜的焦斑的一定范围内产生沿轴向和横向扩展的M×N×Q的三维激光聚焦焦斑阵列。这种三维的激光聚焦光斑沿轴向和横向间隔均匀,在空间上呈规则的“晶格”排布,并且各聚焦光斑强度相等。本发明产生的激光聚焦焦斑三维达曼阵列可以广泛应用于三维激光微纳加工包括三维光子晶体的制作、激光并行粒子及细胞捕获以及三维检测等方面。 |
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