| 专利名称 | 光栅高速直写装置 | 申请号 | CN201110148471.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102248284A | 公开（授权）日 | 2011.11.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 范永涛;徐文东;郝春宁 | 主分类号 | B23K26/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B23K26/00(2006.01)I;B23K26/04(2006.01)I;B23K26/08(2006.01)I | 专利有效期 | 光栅高速直写装置 至光栅高速直写装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种光栅高速直写装置，其构成包括刻写光源、光束偏转器、fθ透镜组、离焦检测模块、光谱分光镜、调焦位移器、物镜、待刻样品、二维样品台和总控制器。本发明具有刻写速度快、面积大、可控性好的特点，能直接刻写出变占空比、变强度分布的一维光栅，具有广泛的用途。 |
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