| 专利名称 | 一种干涉条纹垂直度测量方法 | 申请号 | CN201110170911.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102252635A | 公开（授权）日 | 2011.11.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 丑小全;李华;张建;李立波;焦巧利 | 主分类号 | G01B11/26(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/26(2006.01)I;G01J3/45(2006.01)I | 专利有效期 | 一种干涉条纹垂直度测量方法 至一种干涉条纹垂直度测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种干涉条纹垂直度测量方法，以解决现有技术测量干涉条纹垂直度判读精度不高的技术问题。本发明采用望远镜的分划十字对准干涉亮条纹(或暗条纹)的中心，在俯仰方向上自下而上(或自上而下)扫描干涉条纹范围α，然后望远镜的分划十字再次对准同一干涉亮条纹(或暗条纹)的中心，从二维转台上读数水平偏角β，根据扫描角度和相差值可算出垂直度值γ。本发明操作简便，克服了传统技术CCD靶面的不垂直度影响，提高了干涉仪干涉条纹垂直度的测量精度，扩大了检测干涉条纹的视场。 |
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