半导体和钛酸钡p-n结

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专利名称 半导体和钛酸钡p-n结 申请号 CN01104066.1 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN1371136 公开(授权)日 2002.09.25 申请(专利权)人 中国科学院物理研究所 发明(设计)人 吕惠宾;颜雷;戴守愚;陈正豪;周岳亮;陈凡;谈国太;杨国桢 主分类号 H01L49/00 IPC主分类号 H01L49/00;H01L29/12;H01L21/31;H01L21/3115 专利有效期 半导体和钛酸钡p-n结 至半导体和钛酸钡p-n结 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及电子学领域,特别是涉及一系列新型 p-n结。本发明将n型BaAxTi1-xO3或Ba1-xLaxTiO3薄膜材料(其中A是Nb或Sb或Ta)或p型钛酸钡BaBxTi1-xO3(其中B是In或Ga或Mn,所有x的取值范围为0.005~0.5),与n型或p型半导体材料(选择硅或锗或砷化镓)进行叠层生长,制备成硅或锗或砷化镓和钛酸钡的p-n结、p-p结、n-n结、p-n-p结、n-p-n结等结构。本发明的制作工艺简单,稳定性好,可广泛应用于电子器件及探测器。

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