专利名称 | 一种EUV光源污染物收集装置 | 申请号 | CN201210479101.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN103108480A | 公开(授权)日 | 2013.05.15 | 申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 宗明成;孙裕文;李世光;黄有为 | 主分类号 | H05G2/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H05G2/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种EUV光源污染物收集装置 至一种EUV光源污染物收集装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置,应用于X射线或者EUV发光装置,其中,所述EUV发光装置包括:一激光源,一真空腔,一集光镜,一喷嘴,其中,EUV光源污染物收集装置包括:一收集罩,收集罩位于真空腔内,用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片,减少对EUV光源及其相连光刻机的污染;一储存装置,储存装置位于真空腔的下方,储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染,提高其使用寿命,同时降低污染物对EUV光的吸收,大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材,因此能够大幅度提高靶材的利用效率。 |
1、源头对接,价格透明
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4、专员跟进,交易保障