一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔

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专利名称 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔 申请号 CN201120352700.9 专利类型 实用新型 公开(公告)号 CN202307811U 公开(授权)日 2012.07.04 申请(专利权)人 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 发明(设计)人 李超波;黄成强;陈波;饶志鹏 主分类号 H01L21/3065(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/3065(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I 专利有效期 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔 至一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔 法律状态 授权 说明书摘要 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔,包括腔体,所述腔体上安装有腔盖,所述腔盖上开有片盘取放口,所述片盘取放口处设置有盖子,所述腔体的一侧面上开有片盘进出口,所述片盘进出口处设有阀门,所述腔体上设有用于与机械泵连接的机械泵接口、用于与进气管道连接的进气管道接口,所述腔体内底面上开有导轨槽,所述导轨槽内安装有沿其运动的导轨器,所述导轨器上连接有输送片盘的机械手;所述导轨器与带动其运动的丝杆连接,所述丝杆可转动的安装在腔体内,其一端穿出腔体与伺服电机连接,所述伺服电机固定在腔体的底部。本实用新型的有益效果:机械手的运输机制更简单可靠、成本低。

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