| 专利名称 | 透射型样品相位显微装置和相位显微方法 | 申请号 | CN201210074742.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102645739A | 公开（授权）日 | 2012.08.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 潘兴臣;刘诚;朱健强 | 主分类号 | G02B21/26(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B21/26(2006.01)I;G02B21/18(2006.01)I;G02B21/00(2006.01)I;G01N21/41(2006.01)I | 专利有效期 | 透射型样品相位显微装置和相位显微方法 至透射型样品相位显微装置和相位显微方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种透射型样品相位显微装置和相位显微方法，在同轴全息光路的基础上，把透射型物体的放大后的实像用小孔扫描后作为物光，在一定距离外的探测器靶面上形成散射斑并和同方向的平面波干涉，分别记录小孔在不同位置处时，散射斑单独存在及其和参考光干涉所形成的光强分布，同时保证参考光不变并记录一次参考光光强分布。通过计算机进行迭代运算的方式获得远大于探测器靶面尺寸的再现像(包括振幅和位相)，本发明产生的再现像不但没有零级和共轭像的干扰，而且由于采用小孔扫描和预防大的方式，可以对远大于探测器靶面尺寸的透射型样品进行位相显微成像，并且由于参考光的引入，相比通常的迭代算法具有更快的收敛速度。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障