| 专利名称 | 一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法 | 申请号 | CN201110024872.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102611852A | 公开（授权）日 | 2012.07.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 冀永辉;王凤虎;丁川;余兆安;王琴;龙世兵;刘明 | 主分类号 | H04N5/335(2006.01)I | IPC主分类号 | H04N5/335(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法 至一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，属于微电子技术领域。所述方法包括在成像器件阵列上设置一些参考单元，其余单元为成像单元，邻近位置安置参考单元以减小工艺、温度等因素引起的失配，使得成像单元和参考单元在擦除之后有几乎完全一致的初始阈值电压，再通过实验得出不同初始阈值电压和不同差分参量下各个实际光强的值。本发明基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法通过使用差分技术消除了由于成像器件擦除不均匀，擦除阈值电压产生偏差而导致图像失真的问题，提高成像质量，避免去刻意追求难以实现的统一化复位阈值。 |
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