要求低温彩膜（color filter）加工工艺小于100-120℃，能够实现像素化，像素大小约为5um*5um，采用干刻或者湿刻技术，刻蚀精度小于0.5um，无Tape角要求，能够对应每天4片Wafe的加工量，应用于硅基OLED微显示器的全彩化。 （来源：中科院苏州育成中心、苏州市生产力促进中心）
