一种用于激光分子束外延设备中的衬底加热器

本发明涉及用于激光分子束外延设备的衬底加热器包括炉盘，在炉盘底上开有至少2个固定孔，固定孔中穿入螺钉，该螺钉在漏出底座上的一段上套有垫片或螺母，在其上放上隔热板和垫片或螺母；炉丝板2两端有通孔，和板面上开有螺旋槽，螺旋槽内缠绕炉丝；压片压放在缠绕好炉丝上面，压片两端也有通孔，其通孔的位置与炉丝板上通孔的位置相对应，通过螺母将压片、炉丝板、隔热板固定在炉盘上；在炉盘和隔热板的对称位置上各打2个圆孔，作为炉丝的炉丝引线的孔，炉丝引线与炉丝和加热器的电源电连接。加热器的电源选用低纹波的直流稳压电源，炉丝采用扁螺旋形绕制和选用低纹波的直流稳压电源，消除了炉丝电流产生磁场对RHEED的影响

一种用于激光分子束外延设备中的衬底加热器

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