本发明提供了一种熔石英表面处理的装置及方法，所述熔石英表面处理的装置包括：具有反应腔的壳体；所述壳体顶部中心位置设置有等离子体发生单元；所述壳体底部中心位置设置有样品台；所述样品台中心位置设置有隔离单元，所述隔离单元包括防护膜和隔离罩；所述防护膜平铺在所述样品台和待处理熔石英之间；所述隔离罩放置在防护膜上待处理熔石英周围。本发明提供的熔石英表面处理的装置能够将待处理的熔石英与周围隔离，避免来自装置壳体和样品台的金属溅射污染；同时，通过两次等离子体刻蚀，能够实现去除熔石英的亚表面损伤层，得到具有较好表面粗糙度的熔石英。
