工业化硬质涂层制备装置及涂层工艺技术

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应用领域 新材料,轻工 技术领域 新材料及其应用 技术成熟度 通过中试 交易类型 完全转让,许可转让,技术入股
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本项目研制出基于HIS技术和闭合场非平衡磁控溅射方法的大功率离子镀膜装置,开发出新型纳米硬质复合薄膜制备工艺技术,可用于制备多种复合硬质涂层。技术指标_x000D_
①最大溅射功率4′5 kW;②背底真空度£10P-5P Pa;③磁控溅射靶4个;④工件对地单极性脉冲负偏压0~1 kV可调;⑤溅射温度:室温~450℃可调;⑥三轴联动的工具架。涂层主要技术指标:①涂层厚度3~5微米;②涂层硬度330 GPa;③涂层最高工作温度3900℃。_x000D_

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